唯一打入台积电7纳米制程蚀刻设备的大陆本土设备商，就在长三角

今天上午，第一届长三角一体化创新成果展在芜湖开幕。记者走进展厅先睹为快，了解这些重量级成果背后的故事。

项目名称：28到7纳米等离子体介质刻蚀设备，金属有机化合物气相沉积设备

展示主题：高端制造在长三角示范应用

“我国正在成为集成电路芯片和微观器件生产的大国，到2020年，在我国新的芯片生产线上的投资将会超过美国、日本和韩国等地区的投资，中国会变成一个最大的芯片生产基地。我们相信到2030年，我国的芯片和微观器件的加工能力和规模一定能完全赶上并在不少方面超过国际先进水平。”中微半导体设备（上海）股份有限公司董事长兼首席执行官尹志尧博士曾在公开场合这么说。

去年3月，中央电视台大型纪录片《大国重器》第二季第六集中，来自中微的7纳米芯片刻蚀机荣幸被收录其中。

现阶段半导体产业能量产的最先进的工艺节点是7nm，台积电全面领先。在7纳米制程设备方面，囊括了5大设备商包括应用材料(Applied Materials)、科林研发(LAM) 、东京威力科创(TEL)、日立先端(Hitach)、中微半导体。中微是唯一打入台积电7纳米制程蚀刻设备的大陆本土设备商。

而央视收录的，正是中微，也是中国自主研发的第一批7纳米芯片刻蚀机，它采用的是等离子体刻蚀技术。利用有化学活性的等离子体，在硅片上雕刻出微观电路。

据介绍，中微自主研发生产的等离子体介质刻蚀设备已达到国际先进水平，已应用于65纳米到14纳米、7纳米和5纳米的集成电路生产线。由于中微等离子体介质刻蚀设备成功进入海内外市场，美国商务部在2015年2月宣布，将刻蚀机从美国对中国的出口控制清单上移除。在创新性保护方面，截至2019年4月底，中微的刻蚀设备已申请国内外专利共1053项，其中759项已获授权。

中微公司及其所研发的高端芯片制造设备先后60余次在国内外获得知名奖项，包括行业权威《Semiconductor International》（《半导体国际》）杂志颁发的“2009年全球最佳产品奖”，上海市政府颁发的“2009年度上海市科技进步奖一等奖”，“第十六届中国国际工业博览会金奖”等。

金属有机化合物气相沉积设备（MOCVD）是半导体发光器件和功率器件等外延芯片生产中最为关键的设备。中微MOCVD设备的研制成功、实现国产化，填补了我国一项重要的空白。中微公司自主研发生产的MOCVD设备Prismo A7已在国内蓝绿光半导体照明芯片制造领域占据主流市场地位。中微的MOCVD设备已广泛应用于包括苏、浙、皖地区在内的多家LED芯片制造企业，有利地推动了长三角区域半导体照明产业链的发展。

作者：王星 
编辑：赵征南
责任编辑：付鑫鑫